러시아, ASML에 대항하기 위해 독자적인 EUV 노광 장치 개발 개시
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시사, 경영

러시아, ASML에 대항하기 위해 독자적인 EUV 노광 장치 개발 개시

by 소식쟁이2 2025. 1. 1.

러시아, ASML에 대항하기 위해 독자적인 EUV 노광 장치 개발 개시

「EUV 노광 장치」는 최첨단 반도체의 제조에 반드시 필요한 장치로, 네덜란드 기업의 ASML이 높은 점유율을 가지고 있습니다. 새롭게, 러시아가 ASML에 의존하지 않는 독자적인 EUV 노광장치 개발 계획을 수립했습니다. 계획에서는 ASML과는 다른 구조의 EUV 노광장치의 개발이 예상되고 있으며, 장치 이외의 반도체 제조 툴의 전체 교체도 필요하게 된다고 합니다.

ASML의 EUV 노광장치에서는 13.5 nm라고 하는 매우 짧은 파장의 자외선을 쏠 수 있습니다. 러시아는 11.2nm라는 더욱 짧은 파장의 자외선을 다루는 것을 목표로 하고 있으며, 짧은 파장에 의해 제조비용과 운용비용을 절감할 수 있을 것으로 기대되고 있습니다.

EUV 노광장치 개발계획은 3단계로 나뉘어 있으며, '제1단계: 기초연구 및 필요한 기술의 특정', '제2단계: 200mm 웨이퍼를 시간당 60매 처리할 수 있는 시제품 작성', '제3단계: 300mm 웨이퍼를 시간당 60매 처리할 수 있는 양산대응품 작성'이라는 순서로 개발이 진행될 예정입니다.

첨단 반도체 분야에서는 ASML의 13.5nm라는 파장에 맞춰 설계 툴과 각종 주변 설비가 구축되어 있습니다. 이 때문에, 러시아의 「파장 11.2 nm의 EUV 노광장치」를 이용해 반도체를 제조하려면, 제조 에코 시스템 전체를 쇄신해야 합니다. 러시아는 EUV 노광장치 개발에 걸리는 기간을 명시하지 않았지만, 해외 매체인 Tom's Hardware는 "에코시스템 쇄신도 필요한 것을 고려하면 수년에서 10년 정도의 기간이 걸린다"고 분석하고 있습니다.

그리고 중국도 「ASML 등에 의존하지 않는 반도체 제조 에코시스템의 구축」을 진행하고 있어 2024년 4월에는 중국 정부가 반도체 산업에 약70조원을 출자하고 있습니다.

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В России написана «дорожная карта» создания суверенного литографа дешевле и проще, чем у ASML - CNews
https://www.cnews.ru/news/top/2024-12-13_v_rossii_razrabotali_dorozhnuyu

Russia plans EUV chipmaking tools that it says will be cheaper and easier to build than ASML's — country outlines new roadmap to smaller chips | Tom's Hardware
https://www.tomshardware.com/tech-industry/russia-plans-euv-chipmaking-tools-that-it-says-will-be-cheaper-and-easier-to-build-than-asmls-country-outlines-new-roadmap-to-smaller-chips

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